光学的な粒子検出に基づいた現在の粒子計測技術は、今日の半導体製造設備で使用されている線幅で粒子をモニタリングするには不十分です。半導体製造における International Roadmap for Devices and Systems (IRDS: 国際デバイスおよびシステムロードマップ) では何年もの間 20nm 未満の粒子の検出を求めてきました。走査型 TPC は超純水 (UPW) において 10nm の粒子を検出できる世界初の粒子カウンターです。
走査型 TPC では、超精密ネブライザーが特許取得の二段式連続インパクターを使い、粒径 10nm 以上の不揮発性残渣粒子を生成する大きな液滴をほぼすべて除去します。このような大きな NVR 粒子は、懸濁液内の純粋な粒子の測定に干渉します。特許取得済みの粒径選択可能な凝縮粒子カウンターは、50％ の検出率で粒径が 10nm、15nm、および 20nm の粒子を連続走査します。
走査型 TPC の応答は、今日使われているあらゆる光散乱粒子計数装置 (OPC) やレーザー粒子カウンター (LPC) とは異なり、粒子の屈折率や粒子形状に左右されません。またあらゆる OPC および LPC とは異なり、走査型 TPC は校正物質としてポリスチレンラテックス (PSL) を使用しません。PSL 粒子の標準偏差は 40nm 未満ですが、これは大きすぎて走査型 TPC で計測される粒径ではほぼ使えないためです。代わりに、走査型 TPC では欧州標準物質のコロイダルシリカ標準トレーサブルな様々なコロイダルシリカを使用しています。
走査型 TPC の 10nm における 50% 検出率により、7nm の微細粒子まで計測できます。それに比べて、OPC や LPC の計測率はそれぞれの定格粒子検出粒径においてわずか 3-5% に過ぎません。10nm あるいはそれより微細な粒子を取り除ける高機能フィルターの能力が大幅に低下する中、走査型 TPC を使用すればかなりの数の粒子を計測できることが期待されます。
走査型 TPC には次ような特長があります:
